An Effect of Ionization Potential on Preparation of Cu Films on Si(100) by ICBD

ICBD 방법에 의한 Si(100) 기판위 Cu 박막제작에 Ionization potential이 미치는 영향

  • 김기환 (한국과학기술연구원 세라믹스연구부) ;
  • 윤영수 (한국과학기술연구원 세라믹스연구부) ;
  • 최두진 (연세대학교 세라믹공학과) ;
  • 정형진 (한국과학기술연구원 세라믹스연구부) ;
  • 고석근 (한국과학기술연구원 세라믹스연구부)
  • Published : 1995.02.01