한국진공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference)

한국진공학회 (The Korean Vacuum Society)
권호 표지

TRXRF에 의한 CMP 및 세척 공정 후의 표면오염분석

The characterization of metallic contaminations on dielectric film surface treated with CMP and cleaning Process by TRXFR

  • 김상기 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 백종태 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 유형준 (한국전자통신연구소 반도체연구단)
  • 발행 : 1995.02.01
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