An investigation of the thickness measurements of thin $SiO_2$ using FT-IR and Ellipsometry

FT-IR 을 이용한 $SiO_2$ 초박막의 두께 측정 및 Ellipsometry 방법과의 비교연구

  • 서경수 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 박형호 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 유병곤 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 조경익 (한국전자통신연구소 반도체연구단) ;
  • 김경수 (한국전자통신연구소 반도체연구단)
  • Published : 1994.05.01