Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference (한국진공학회:학술대회논문집)
- 1994.06a
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- Pages.85-86
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- 1994
Effect of Annealing Techniques on the Interface between Si and Ta2O5 film growth by MOCVD Precess
열처리 방법이 MOCVD에 의하여 증착된 탄탈륨 산화박막과 실리콘 계면에 미치는 영향
Abstract
Keywords