방전 플라즈마 CVD에 의한 전력용 고합 TFT의 개발

Development of High Voltage TFT by Discharge Plasma Chemical Vapor Depoisition

  • 이우선 (조선대학교 전기공학과) ;
  • 강용철 (조선대학교 전기공학과) ;
  • 김병인 (조선대학교 전기공학과) ;
  • 양태환 (조선대학교 전기공학과) ;
  • 정해인 (조선대학교 전기공학과) ;
  • 정용호 (조선대학교 전기공학과)
  • 발행 : 1993.05.15

초록

We studied the fabrication and electrical characteristics of high voltage hydrogenerated amorphous silicon thin film transistor using glow discharge plasma enchanced chemical vapor deposition (GDPECVD) with $2500{\AA}\;SiO_2$, $400-1500{\AA}$ a-Si thickness, 350V output voltage, 100V input voltaege, and $9.55{\times}10^4$ average on/off ratio. We found that leakage current of high voltage TFT occured 0-70V drain voltage.

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