Ion Channeling, TEM 그리고 TW를 이용한 $Ar^{+}$ 이온주입된 실리콘에서의 열처리과정 연구

A Study on Annealing Process of $Ar^{+}$ Implnanted silicon Using Ion Channeling, TEM and TW

  • 발행 : 1993.05.01