Silane Gas를 이용한 Medium Temperatrue Oxide Thin Film의 특성

Charaacteristecs of Medium Temperature Oxide Thin Film Using Silane Gas

  • 이석희 (현대저자 산업 주식 회사, 반도체 연구소) ;
  • 이현우 (현대저자 산업 주식 회사, 반도체 연구소) ;
  • 김종철 (현대저자 산업 주식 회사, 반도체 연구소) ;
  • 박헌섭 (현대저자 산업 주식 회사, 반도체 연구소)
  • 발행 : 1992.05.01