Proceedings of the KIEE Conference (대한전기학회:학술대회논문집)
- 1989.07a
- /
- Pages.295-298
- /
- 1989
Fabrication or Si Diaphragm using Optimal Etching Condition of $N_2H_4-H_2O$ Solution
$N_2H_4-H_2O$ 용액의 최적 시작 조건을 이용한 Si diaphragm의 제작
- Ju, B.K. (Sensors & Instrumentations Lab., KAIST) ;
- Lee, Y.H. (Sensors & Instrumentations Lab., KAIST) ;
- Kim, H.G. (Sensors & Instrumentations Lab., KAIST) ;
- Oh, M.H. (Sensors & Instrumentations Lab., KAIST)
- 주병권 (한국 과학 기술원 계측 소자 연구실) ;
- 이윤희 (한국 과학 기술원 계측 소자 연구실) ;
- 김형곤 (한국 과학 기술원 계측 소자 연구실) ;
- 오병환 (한국 과학 기술원 계측 소자 연구실)
- Published : 1989.07.21
Abstract
Using the anisotropic etching characteristics or
Keywords