• Title, Summary, Keyword: ECMD(electro-chemical mechanical deposition)

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Electro-chemical Mechanical Deposition for Planarization of Cu Interconnect (Cu 배선의 평탄화를 위한 ECMD에 관한 연구)

  • Jeong, Sukhoon;Seo, Heondeok;Park, Boumyoung;Park, Jaehong;Park, Seungmin;Jeong, Moonki;Jeong, Haedo;Kim, Hyoungjae
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.18 no.9
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    • pp.793-797
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    • 2005
  • This study introduces Electro-chemical Mechanical Deposition(ECMD) lot making Cu interconnect. ECMD is a novel technique that has ability to deposit planar conductive films on non-planar substrate surfaces. Technique involves electrochemical deposition(ECD) and mechanical sweeping of the substrate surface Preferential deposition into the cavities on the substrate surface nay be achieved through two difference mechanisms. The first mechanism is more chemical and essential. It involves enhancing deposition into the cavities where mechanical sweeping does not reach. The second mechanism involves reducing deposition onto surface that is swept. In this study, we demonstrate ECMD process and characteristic. We proceeded this experiment by changing of distribution of current density on divided water area zones and use different pad types.

Electro-chemical Mechanical deposition for the planarization of Cu film (Cu 배선의 평탄화를 위한 ECMD에 관한 연구)

  • Jeong, Suk-Hoon;Seo, Heon-Duk;Park, Boum-Young;Lee, Hyun-Seop;Jung, Jae-Woo;Park, Jae-Hong;Jeong, Hae-Do
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • pp.649-650
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    • 2005
  • 반도체는 고집적화, 고속도화, 저전력화를 목적으로 발전하고 있다. 이를 위하여 design rule의 감소, 새로운 물질과 프로세스의 적용 등 많은 연구가 이루어지고 있으며, RC delay time을 줄이기 위한 Cu 와 저유전율 재료의 적용이 그 대표적인 예라 할 수 있다. Cu 배선은 기존의 Al 배선에 비하여 높은 전자이동 (electro-migration)과 응력 이동 (stress-migration) 저항을 가짐으로써 전기적인 성능 (electrical performance) 에서 이점을 가지고 있다. 반도체에서의 Cu 배선 구조는 평탄화된 표면 및 배선들 사이에서의 좋은 전기적인 절연성을 가져야 하며, 이는 디싱(dishing)과 에로젼(erosion)의 중요한 인자가 된다. 기존의 평탄화 공정인 Cu CMP(Chemical Mechanical Polishing)에 있어서 이러한 디싱, 에로전과 같은 결함은 선결되어져야 할 문제로 인식되고 있다. 따라서 본 연구에서는 이러한 결합들을 감소시키기 위한 새로운 평탄화 방법으로 Cu gap-filling 을 하는 동시에 평탄화된 표면을 이루는 ECMD(Electro-Chemical Mechanical Deposition) 공정의 전기적 기계적 특성을 파악하였다.

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