• Title, Summary, Keyword: 증착설비

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Deposition Process Load Balancing Analysis through Improved Sequence Control using the Internet of Things (사물인터넷을 이용한 증착 공정의 개선된 순서제어의 부하 균등의 해석)

  • Jo, Sung-Euy;Kim, Jeong-Ho;Yang, Jung-Mo
    • Journal of Digital Convergence
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    • v.15 no.12
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    • pp.323-331
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    • 2017
  • In this paper, four types of deposition control processes such as temperature, pressure, input/output(I/O), and gas were replaced by the Internet of Things(IoT) to analyze the data load and sequence procedure before and after the application of it. Through this analysis, we designed the load balancing in the sensing area of the deposition process by creating the sequence diagram of the deposition process. In order to do this, we were modeling of the sensor I/O according to the arrival process and derived the result of measuring the load of CPU and memory. As a result, it was confirmed that the reliability on the deposition processes were improved through performing some functions of the equipment controllers by the IoT. As confirmed through this paper, by applying the IoT to the deposition process, it is expected that the stability of the equipment will be improved by minimizing the load on the equipment controller even when the equipment is expanded.

Effect of Si Interlayer on the Roughness of Diamond-like Carbon Films (다이아몬드상 탄소박막의 조도에 미치는 Si Interlayer의 영향)

  • Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun;Park, Yeong-Hui;Lee, Gyeong-Hwang
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • pp.37-38
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    • 2007
  • Si Interlayer의 두께가 DLC (Diamond-like Carbon) 박막의 조도 및 미세 조직에 미치는 영향을 AFM 및 TEM을 이용하여 조사하였다. DLC 박막은 이온빔 소스를 이용하여 벤젠가스를 플라즈마 분해하여 기판에 증착하였고 기판에는 2kV의 펄스전원을 인가하였다. 기판은 Si Wafer와 초경을 이용하였으며 초경의 경우 평균조도가 20nm이하가 되도록 연마하여 사용하였다. Si Interlayer는 스퍼터링 소스를 이용하여 제조하였고 증착 시간에 따라 두께를 달리하여 약 90nm까지 변화시켰다. Si Interlayer만 증착하였을 경우 조도에 큰 차이를 나타내었으나 Interlayer 위에 DLC가 코팅되면 조도가 감소하여 Si 두께와는 상관이 없는 것으로 나타났다. 본 연구에서는 Interlayer에 두께에 따른 조도변화와 함께 피막의 조직 및 경도 변화 등에 대해 고찰하였다.

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300mm MAHA PECVD

  • Bae, Geun-Hak;Kim, Ho-Sik
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • pp.14-15
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    • 2007
  • MAHA PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 설비는 반도체 소자업체의 200mm와 300mm 생산 라인에서 실리콘 산화막 및 실리콘 질화막을 증착하고 있는 (주)아토의 주력 반도체 전공정 설비이다. MAHA PECVD 설비는 2002년 소자업체에서 TEOS 산화막 공정에 대한 양산검증을 확보한 이후 현재까지 64 시스템이 제작되어 소자업체의 생산 라인에서 가동 중에 있다.

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Study on Surface Characteristics of Fe Doped MgO Protective Layer (Fe가 첨가된 MgO 보호막의 표면특성 개선에 관한 연구)

  • Lee, Don-Kyu;Park, Cha-Soo;Kim, Kwong-Toe;Sung, Youl-Moon
    • Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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    • v.24 no.2
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    • pp.106-112
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    • 2010
  • In order to compete with other flat display devices such as Liquid Crystal Displays (LCDs) and organic light emitting diodes (OLEDs), Plasma Display Panels (PDPs) require to have high performances like high image quality, low power consumption and high speed driving. In this paper, Fe doped MgO protective layer was introduced for higher performance. Both the surface characteristics of the deposited thin films and the electro-optical properties of 4 inch test panels were investigated. It has been demonstrated experimentally that ac PDP with Fe doped MgO protective layer has lower discharge voltage than that of undoped MgO film, which corresponds to measured secondary electron emission coefficients. The crystallinity and surface roughness of thin films were determined by XRD patterns and AFM images. In addition, ac PDP with Fe doped MgO protective layer has improved address discharge time lag for high speed driving.

V-NAND Flash Memory 제조를 위한 PECVD 박막 두께 가상 계측 알고리즘

  • Jang, Dong-Beom;Yu, Hyeon-Seong;Hong, Sang-Jin
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • pp.236.2-236.2
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    • 2014
  • 세계 반도체 시장은 컴퓨터 기능이 더해진 모바일 기기의 수요가 증가함에 따라 메모리반도체의 시장규모가 최근 빠른 속도로 증가했다. 특히 모바일 기기에서 저장장치 역할을 하는 비휘발성 반도체인 NAND Flash Memory는 스마트폰 및 태블릿PC 등 휴대용 기기의 수요 증가, SSD (Solid State Drive)를 탑재한 PC의 수요 확대, 서버용 SSD시장의 활성화 등으로 연평균 18.9%의 성장을 보이고 있다. 이러한 경제적인 배경 속에서 NAND Flash 미세공정 기술의 마지막 단계로 여겨지는 1Xnm 공정이 개발되었다. 그러나 1Xnm Flash Memory의 생산은 새로운 제조설비 구축과 차세대 공정 기술의 적용으로 제조비용이 상승하는 단점이 있다. 이에 따라 제조공정기술을 미세화하지 않고 기존의 수평적 셀구조에서 수직적 셀구조로 설계 구조를 다양화하는 기술이 대두되고 있는데 이 중 Flash Memory의 대용량화와 수명 향상을 동시에 추구할 수 있는 3D NAND 기술이 주목을 받게 되면서 공정기술의 변화도 함께 대두되고 있다. 3D NAND 기술은 기존라인에서 전환하는데 드는 비용이 크지 않으며, 노광장비의 중요도가 축소되는 반면, 증착(Chemical Vapor Deposition) 및 식각공정(Etching)의 기술적 난이도와 스텝수가 증가한다. 이 중 V-NAND 3D 기술에서 사용하는 박막증착 공정의 경우 산화막과 질화막을 번갈아 증착하여 30layer 이상을 하나의 챔버 내에서 연속으로 증착한다. 다층막 증착 공정이 비정상적으로 진행되었을 경우, V-NAND Flash Memory를 제조하기 위한 후속공정에 영향을 미쳐 웨이퍼를 폐기해야 하는 손실을 초래할 수 있다. 본 연구에서는 V-NAND 다층막 증착공정 중에 다층막의 두께를 가상 계측하는 알고리즘을 개발하고자 하였다. 증착공정이 진행될수록 박막의 두께는 증가하여 커패시터 관점에서 변화가 생겨 RF 신호의 진폭과 위상의 변화가 생긴다는 점을 착안하여 증착 공정 중 PECVD 장비 RF matcher와 heater에서 RF 신호의 진폭과 위상을 실시간으로 측정하여 데이터를 수집하고, 박막의 두께와의 상관성을 분석하였다. 이 연구 결과를 토대로 V-NAND Flash memory 제조 품질향상 및 웨이퍼 손실 최소화를 실현하여 제조 시스템을 효율적으로 운영할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.

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고속 스퍼터링 소스를 이용한 구리 후막 제조 및 특성

  • Jeong, Jae-In;Yang, Ji-Hun
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • pp.345.1-345.1
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    • 2016
  • 구리 피막은 열 및 전기를 잘 전달하는 특성으로 인해 전기 배선이나 Heat Sink 재료 등에 이용되고 있다. 최근에는 전자파 차폐나 FCCL (Flexible Copper Clad Laminate) 등의 피막으로 널리 이용되면서 연속 코팅 및 후막 제조를 위한 고속 소스의 필요성이 증가하고 있다. 연속코팅 설비에 적용하거나 후막을 경제적으로 제조하기 위해서는 정지상태의 기판을 기준으로 시간당 $100{\mu}m$ 이상의 증착 속도가 요구된다. 기존 마그네트론 스퍼터링 소스의 경우 일반적으로 증착율이 시간당 $20{\mu}m$ 이내이며, 고전력을 이용하는 소스의 경우도 $60{\mu}m$를 넘지 못하고 있다. 본 발표에서는 자기장 시뮬레이션을 통해 자석의 배열을 최적화하고 냉각 효율을 고려한 소스 설계를 통해 고속 스퍼터링 소스를 제작하고 그 특성을 평가하였다. 제작된 소스는 구리 코팅을 위한 스퍼터링 공정 조건을 도출하고 다양한 기판에 $20{\mu}m$ 이상의 구리 후막을 코팅하여 미소 형상 및 코팅 조직을 분석하였다.

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Electret Characteristics of polyethylene terephthalate for electret installation (전기설비용 polyethylene terephthalate의 electret 특성연구)

  • 국상훈;서장수
    • The Proceedings of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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    • v.10 no.3
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    • pp.78-85
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    • 1996
  • This paper experience the mechanism for the electret of polyethyleneterephthalate(PET) by using surface potentail measurement means. We investigated the internal charge production and becoming week by evaporating electrode in sample structure of electret coexist with hetero charge and homo charge, as the study based on two charge theory. We expects that the hetero charge consists of the dipole and ion displacement of internality, the homo charge consists of injected charge of externality.

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비증착 방법에 의한 사용후 핵연료의 EPMA 분석

  • 정양홍;송웅섭;김도식;김희문
    • Proceedings of the Korean Radioactive Waste Society Conference
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    • pp.353-354
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    • 2004
  • 사용후 핵연료의 조성을 분석하거나 또는 반사전자상과 2차 전자상 등으로 시료를 관찰하기 위해서는 핫셀(Hot cell)에 증착기(coater)를 설치하여 시료표면을 전도성 물질인 탄소 등으로 증착시켜야 한다. 그러나 원격조정기를(manipulator)를 이용하여 수행되는 핫셀에서의 증착작업은 사용후 핵연료 시험의 선진분석기술을 갖고 있는 원자력 선진국에서도 핫셀내에 설치되어 있는 증착기의 탄소봉을 교체하는 작업과 진공장치의 성능 유지가 까다로워 시료표면에 균질하게 전도성 물질을 증착시키는 작업에 많은 어려움을 겪고 있다. 본 연구는 통상적으로 이용되는 증착기를 사용하지 않고 Silver Paint를 사용하여 사용후 핵연료를 분석할 수 있는 새로운 방법에 대한 연구를 수행하였다. 산화물 핵연료는 전기전도도가 매우 낮아($3{\times}10^{-1}~4{\times}10^{-8}/ohm{\cdot}cm$)입사된 전자의 이동이 원활하지 못해 일어나는 들뜸(Charging)현상이 발생한다. 그러나 Silver Paint 에 사용후 핵연료를 접착하면 모세관(capillary)현상에 의해 시료 주위와 핵연료의 결정립계로 Silver가 스며들어 입사된 전자의 이동이 원활해져 전도성이 극히 낮은 시료의 분석이 가능하게 된다. 본 시험에 사용된 EPMA는 (Electron Probe Micro Analyzer, SX-50R, CAMECA, Paris, France) 고 방사능을 띤 조사 핵연료의 시험을 수행할 수 있도록 기기의 적절한 부위에 납과 텅스텐으로 차폐되어 시편의 방사능 세기가 $3{\times}10^{10}Bq$까지 시험 가능한 기기이다. 그림 1은 JAERI 에 설치 운영중인 증착기 설비 사진이다. 그림에서 핫셀에 설치된 증착기의 진공을 유지하기 위해 핫셀 벽을 관통하여 증착기 본체까지 연결된 배출관의 형상과 복잡한 주변장치들을 볼 수 있다. 그림 2는 비조사 핵연료 시편을 Silver Pain떼 접착한 사진이다. 그림은 시료주위와 시료 표면까지 Silver Paint가 도포된 모습을 보여주고 있다. 상용발전소에서 연소도가 50,000 Mwd/tU인 사용후 핵연료를 상기와 같은 방법으로 만든 시편의 표면을 관찰한 사진을 그림 3~8에 나타내었다. 그림 3은 핵연료 중앙부위의 결정립을 나타낸 그림이다. Silver Paint만으로 접착한 시료의 표면관찰 및 정량분석이 그림에서 보듯이 가능함을 확인하였다. 그림 4는 사용후 핵연료시료를 중앙부위에서 가장자리까지를 다섯 부위로 나누어 그 중 중앙부위(1/5) 지점의 입계 및 형상을 관찰한 사진이다. 결정립의 크기가 다른 부위보다 상대적으로 크고, 결정립에 생성된 기공이 발달되어 있음을 볼 수 있다. 그림 5와 6과 7은 중심부위와 rim부위 사이 지점을 관찰한 사진으로서 결정립과 기공의 분포가 비슷한 형상을 나타내고 있음을 관찰할 수 있었다. 그림 8은 rim 부위 사진으로 전형적인 rim 영역 현상을 관찰할 수 있었다. 표 1은 그림 2와 같이 비조사 산화물 핵연료를 Silver Paint로 접착한 시편을 정량 분석한 결과이다. 시편의 조성은 33.6 at% U, 66.4 at% O의 결과를 얻었다. 산화물 핵연료의 표면 관찰 및 정량 분석 시험시 시편 표면을 전도성 물질로 증착시키지 않고, Silver Paint 에 시편을 접착하는 방법으로도 만족한 시험 결과를 얻을 수 있었다.

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