저온 플라스마 공정을 이용한 알루미늄 표면의 건식 세정에 관한 연구

A Study on the Dry Cleaning of Aluminium Surfaces by Low Temperature Plasma Process

  • 임경택 (전남대학교 촉매연구소, 전남대학교 광소재부품연구센터) ;
  • 김경환 (전남대학교 응용화학공학부, BK21 기능성 나노 신화학소재 사업단) ;
  • 김경석 (전남대학교 응용화학공학부, BK21 기능성 나노 신화학소재 사업단) ;
  • 이휘지 (전남대학교 응용화학공학부, BK21 기능성 나노 신화학소재 사업단) ;
  • 송선정 (전남대학교 응용화학공학부, BK21 기능성 나노 신화학소재 사업단) ;
  • 손호경 (시드니 공과대학교 환경공학부) ;
  • 조동련 (전남대학교 촉매연구소, 전남대학교 광소재부품연구센터)
  • Lim, Gyeong-Taek (Research Institute for Catalysis and Center for Photonic Materials and Devices, Chonnam National University) ;
  • Kim, Kyung Hwan (School of Applied Chemical Engineering and Center for Functional Nano Fine Chemicals, Chonnam National University) ;
  • Kim, Kyung Seok (School of Applied Chemical Engineering and Center for Functional Nano Fine Chemicals, Chonnam National University) ;
  • Li, Hui Jie (School of Applied Chemical Engineering and Center for Functional Nano Fine Chemicals, Chonnam National University) ;
  • Song, Sun Jung (School of Applied Chemical Engineering and Center for Functional Nano Fine Chemicals, Chonnam National University) ;
  • Shon, Hokyong (Faculty of Engineering, University of Technology, Sydney) ;
  • Cho, Dong Lyun (Research Institute for Catalysis and Center for Photonic Materials and Devices, Chonnam National University)
  • 투고 : 2008.09.04
  • 심사 : 2008.09.27
  • 발행 : 2008.12.10

초록

저온 플라스마 공정을 이용하여 알루미늄 표면에 묻은 윤활유를 세정하였다. 아르곤이 혼합된 산소 플라스마를 사용하였으며, 아르곤의 혼합비, 방전전력, negative DC potential 등의 공정변수를 변화시키면서 실험을 수행하였다. 저온 플라스마 세정 후 케이스의 표면을 FTIR과 EDX를 사용하여 분석한 결과 순수 윤활유의 경우 대부분이 20 min 안에 제거되었다. 제거효율은 저온 플라스마 공정조건에 따라 크게 달라졌으며, 산소에 아르곤이 약 30% 혼합된 기체를 사용하여 케이스에 -500 V 이상의 negative DC potential을 걸어주고 300 W로 처리할 때 가장 높은 효율을 보였다. 하지만, 무기물이 함유된 윤활유의 경우에는 어떤 조건에서도 60% 이상의 제거효율을 얻을 수 없었다.

키워드

low temperature plasma;elimination efficiency;discharge power;negative DC potential

과제정보

연구 과제 주관 기관 : 한국학술진흥재단

참고문헌

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