Electrical Properties of PZT Thin Films Deposited on the Ru/$RuO_2$ Metal/Oxide Hybrid Electrodes

Ru/$RuO_2$ 금속/산화물 이중전극 위에 증착한 PZT 박막의 전기적 특성

  • 정규원 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부) ;
  • 박영 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부) ;
  • 송준태 (성균관대학교 전기전자 및 컴퓨터공학부)
  • Published : 2001.04.01

Abstract

PZT thin films (3500$\AA$) have been prepard on the Ru/Ru $O_2$ and Ru $O_2$ bottom electrodes with a RF magnetron sputtering system using P $b_{1.05}$(Z $r_{0.52}$, $Ti_{0.48}$) $O_3$ ceramic target. Ru/Ru $O_2$ bottom electrode was fabricated by in-situ processing controlled the $O_2$ partial pressure. The PZT thin films deposited on the Ru/Ru $O_2$ bottom electrode were preferred oriented (101) plane. The PZT thin films deposited on the Ru/Ru $O_2$ bottom electrodes showed better electrical properties than those with Ru $O_2$ bottom electrodes because Ru $O_2$ prevented oxygen vacancies and impurities from existing withing the interface and substrate.e.

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